PARIS2017 - 2017« Développement et optimisation d'un procédé de photolithographie par écriture laser »
Les différents travaux effectués s'inscrivaient dans le cadre de la structuration de couches minces pour l'imagerie multispectrale.
- Réalisation de l'ensemble des étapes du procédé de photolithographie en salle blanche
- Définition de protocoles expérimentaux de développement et d'optimisation pour la lithographie laser
- Mise en place d'une méthode d'analyse de la qualité des motifs obtenus
- Présentation des résultats
- Etude bibliographique visant à enrichir les connaissances relatives à la lithographie par écriture laser adaptées aux besoins futurs de l'entreprise
Institut d'Electronique et des Télécommunications de Rennes
- Stagiaire Ingénieur de recherche
2015 - 2015Etude de l'influence de la granulométrie d'échantillons de BST (titanate de baryum et de strontium) sur le mouvement des parois de domaine ferroélectriques.
- Réalisation de couches minces ferroélectriques de BST par voie sol-gel en salle blanche
- Caractérisation structurale par microscopie électronique à balayage
- Etude de la réponse diélectrique (permittivité complexe) en fréquence et en température
